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精(jing)密激(ji)(ji)光(guang)(guang)刻(ke)蝕(shi)系統涵蓋導電玻璃(li)、薄膜(mo)(mo)激(ji)(ji)光(guang)(guang)刻(ke)蝕(shi)機、超大(da)幅(fu)面激(ji)(ji)光(guang)(guang)刻(ke)蝕(shi)機、鈣鈦(tai)(tai)礦電池激(ji)(ji)光(guang)(guang)刻(ke)蝕(shi)機、FTO/ITO激(ji)(ji)光(guang)(guang)刻(ke)蝕(shi)機。可針對光(guang)(guang)伏(fu)(鈣鈦(tai)(tai)礦電池)、新能(neng)源、觸摸屏(ping)、電致色玻璃(li)、發(fa)光(guang)(guang)玻璃(li)行業的激(ji)(ji)光(guang)(guang)蝕(shi)刻(ke)/劃線。應用于銀(yin)漿、ITO、FTO、氧(yang)(yang)化鋅、氧(yang)(yang)化鋯、氧(yang)(yang)化鈦(tai)(tai)、金(jin)、銀(yin)、碳粉(fen)、CNT碳納米管、石(shi)墨烯、納米銀(yin)、高分子導電膜(mo)(mo)、銅(tong)薄膜(mo)(mo)、鋁薄膜(mo)(mo)、鉬鋁鉬薄膜(mo)(mo)、PERC等(deng)材(cai)料激(ji)(ji)光(guang)(guang)蝕(shi)刻(ke)。
窄脈寬紅外納秒激光刻蝕機,適用于FTO、ITO、氧化鋅鍍層玻璃、薄膜激光刻蝕。設備標準尺寸600*600mm、600*1200mm,可以滿足10*10mm到300*300mm內的加工需求。
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