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可(ke)根(gen)據需求將整個加工(gong)部分置入手(shou)套(tao)箱內加工(gong)

根據(ju)不同場(chang)景的(de)(de)需求(qiu)，配置(zhi)納秒脈(mo)寬(kuan)的(de)(de)紅外光纖（1064nm）、綠光（532nm）波段光源；皮秒(miao)脈(mo)寬的紅(hong)外光纖（1064nm）、綠光（532nm）、紫外（355nm）波段光(guang)源(yuan)；飛秒脈寬的紅外光(guang)纖（1030nm）、綠光（515nm）波段光(guang)源進(jin)行(xing)微精細(xi)激光(guang)刻蝕(shi)、劃(hua)線、構造去除(chu)、劃(hua)片、表面剝離等應用。

適用于柔性PET/PI/PEN/玻璃(li)等基底材料上的鈣鈦礦太(tai)陽能電池激(ji)光刻蝕劃線(xian)應用(yong)。

玻(bo)璃、PET、PI、PNT等基(ji)底上薄膜(mo)材料激光(guang)刻蝕，應(ying)用于(yu)觸摸屏、光(guang)伏太陽能電(dian)池、電(dian)至色玻璃等行業。

適用于導電銀漿(jiang)、ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦(tai)(tai)、氧化鎳(nie)、碳粉、金(jin)、銀(yin)、銅、鋁等導(dao)電金(jin)屬、石墨烯(xi)、碳納米管、氧化物、鈣鈦(tai)(tai)礦(kuang)電池Spiro-OMeTAD、Perovskite、SnO2、C60、PCBM等(deng)材(cai)料處理(li)。特別是針對(dui)鈣(gai)鈦礦(kuang)(kuang)電池領域的陰電極(ji)、鈣(gai)鈦礦(kuang)(kuang)空(kong)穴傳輸層、阻(zu)擋層、鈣(gai)鈦礦(kuang)(kuang)層、陽(yang)電極(ji)激光刻(ke)蝕劃線技(ji)術(shu)上(shang)有獨到的技(ji)術(shu)優勢。

采用自主研(yan)發的(de)控制軟件、直(zhi)接導入CAD 數據(ju)CCD相機定位(wei)自(zi)動激(ji)光(guang)刻蝕(shi)，操作簡單，方便快(kuai)捷；采用通過軟件實時(shi)調節振鏡與直線電機、電動升降工作臺的設計(ji)，加上真(zhen)空吸附托盤裝置，能有效地解(jie)決(jue)激(ji)光(guang)刻蝕(shi)加工運行中的平穩性。

設(she)備集數控(kong)技(ji)(ji)術(shu)、激光技(ji)(ji)術(shu)、軟件(jian)技(ji)(ji)術(shu)等光機電高(gao)(gao)(gao)技(ji)(ji)術(shu)于一體(ti)，具(ju)有(you)高(gao)(gao)(gao)靈活性、高(gao)(gao)(gao)精(jing)(jing)度(du)、高(gao)(gao)(gao)速度(du)等先(xian)進(jin)制(zhi)造技(ji)(ji)術(shu)的特征。可大(da)范圍內進(jin)行各(ge)種圖案，各(ge)種尺寸的精(jing)(jing)密、高(gao)(gao)(gao)速刻蝕，并且(qie)能(neng)(neng)夠保證很高(gao)(gao)(gao)的產能(neng)(neng)，是(shi)一個(ge)可靠(kao)、穩定和(he)具(ju)有(you)高(gao)(gao)(gao)性能(neng)(neng)價格(ge)比的產品(pin)。

主要構成：激(ji)光器、光路系(xi)(xi)統(tong)、運動控制(zhi)(zhi)系(xi)(xi)統(tong)、電控制(zhi)(zhi)系(xi)(xi)統(tong)、定位系(xi)(xi)統(tong)、抽塵系(xi)(xi)統(tong)、真(zhen)吸附空系(xi)(xi)統(tong)、大理石龍門結構、鈑金結構件等。